ＪＸ金属—大幅続伸、スパッタリングターゲットの増産投資を発表

ＪＸ金属は大幅続伸。半導体の成膜に使う薄膜材料「スパッタリングターゲット」の増産に約230億円を投じると発表、評価材料と捉えられているもよう。チリに保有する銅鉱山の権益を一部手放し、売却益を半導体分野への投資に充てるようだ。同社はスパッタリングターゲットで世界シェア6割、今回の増産投資によって、生産能力は2023年度に比べ1.6倍となるもよう。27年度下期から順次稼働する見込み。