湖北工業—大幅反発、単結晶PLZT薄膜による低駆動電圧と低光損失を同時に実現した光変調器開発

湖北工業は大幅反発。前日19日の大引け後、単結晶PLZT薄膜による画期的な低駆動電圧と低光損失を同時に実現した光変調器を開発したと発表した。PLZTは、ランタン(La)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、 鉛(Pb)の酸化物で、組成と結晶方位の制御によって非常に高い電気光学効果を発現し、強誘電性を利用した不揮発性メモリ材料としても実用化されている。今回開発した PLZT 光変調器は、湖北工業グループであるエピフォトニクス社において 40 年以上にわたって蓄積してきた PLZT 成膜及び光変調器デバイス構造の開発技術の成果として実現したもので、次世代超高速として求められる100Gbpsを超える超高速光通信を低消費電力で実現することが可能になるという。今後の AI サーバー、データセンタや、高速大容量光通信システムの消費電力の低減に貢献することが期待される。