新報国マテリアル—一時ストップ高、国際会議で最新の研究成果を発表と

新報国マテリアルは一時ストップ高。国際会議「SPIE Photomask Technology + EUVL 2026」において、最新の研究成果を発表したとリリースしている。4年連続での論文発表となるが、今回は、光学機器の潜在的課題である「磁場環境下での変形」を克服する「ステンレスインバー IC-DX」の特異な等方性を実証し、グローバルな半導体業界へ向けて同社の技術的優位性を力強くアピールしたとしている。物色の手掛かり材料につながっているようだ。