一時ストップ高。半導体デバイスを製造するために必要不可欠な2インチウエハを製造するためのモザイク結晶の開発に成功した。今後、同社のイオン注入を用いた複製技術を活用し、2インチウエハを作製するための子結晶を製作、その後レーザーによって直径50mmに切断して2インチウエハに仕上げる。27年3月期下期には親結晶の量産体制を整える計画としている。また、29年3月期に1.95億円の営業黒字(27年3月期計画は2.83億円の赤字)を目指す中期経営計画2028を策定したことを発表している。
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